ภาพลายพระนามาภิไธย ที่มีขนาดเล็กในระดับนาโนเมตร แต่ละเส้นมีความกว้างโดยเฉลี่ยประมาณ 80 นาโนเมตร มีความสูงประมาณ 1 นาโนเมตร

เมื่อเวลา 11.35 น.วันที่ 31 มีนาคม 2557 สมเด็จพระเทพรัตนราชสุดาฯ สยามบรมราชกุมารี เสด็จพระราชดำเนิน สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ (สวทช.) ในการนี้ ทรงลงพระนามาภิไธยในแผ่นจารึกในวโรกาสทรงเปิดอาคารกลุ่มนวัตกรรม ๒ และทรงเยี่ยมชมศูนย์นาโนเทคโนโลยีแห่งชาติ ทรงทอดพระเนตรสำนักงานและห้องปฏิบัติการของศูนย์นาโนเทคโนโลยีแห่งชาติ ทอดพระเนตรการใช้งานกล้องจุลทรรศน์แรงอะตอม (Atomic force microscope) หรือ เอเอฟเอ็ม

ทั้งนี้ ศ.นพ.สิริฤกษ์ ทรงศิวิไล ผู้อำนวยการศูนย์นาโนเทคโนโลยีแห่งชาติ ทูลเกล้าถวายรูปภาพเขียนลายพระนามาภิไธยที่มีขนาดเล็กในระดับนาโนเมตร ซึ่งนักวิจัย ได้แสดงตัวอย่างการควบคุมโครงสร้างระดับนาโนโดยการเขียนลายพระนามาภิไธยที่มีขนาดเล็กในระดับนาโนเมตร ใช้เทคนิคการเขียนลวดลายที่เรียกว่า “ออกซิเดชันนาโนลิโธกราฟี (oxidation nanolithography)”
เทคนิคนี้จะใช้หัวเข็มขนาดเล็กของกล้องจุลทรรศน์แรงอะตอมเคลื่อนที่เข้าใกล้ผิวหน้าของแผ่นซิลิกอนที่มีระยะห่างไม่เกิน 10 นาโนเมตร ทำให้เกิดปฏิกิริยาไฟฟ้าเคมีขึ้นระหว่างหัวเข็มกับผิวหน้าของแผ่นซิลิกอน ซึ่งจะส่งผลทำให้เกิดเป็นลวดลายที่มีขนาดเล็กจิ๋ว ปรากฎอยู่ในลายพระนามาภิไธยนี้ แต่ละเส้นมีความกว้างโดยเฉลี่ยประมาณ 80 นาโนเมตร มีความสูงประมาณ 1 นาโนเมตร

รายการอ้างอิง :

ศูนย์นาโนเทคโนโลยีแห่งชาติ (นาโนเทค) สวทช. (2557, 2 เมษายน). พระนามาภิไธยนาโน. กรุงเทพธุรกิจ (ไอที-นวัตกรรม : นวัตกรรม). ค้นเมื่อวันที่  4 เมษายน 2557. จาก http://www.bangkokbiznews.com/home/detail/it/innovation/20140402/572616/พระนามาภิไธยนาโน.html.– ( 28 Views)